ATLAS器件仿真系统使得器件技术工程师可以模拟半导体器件的电、光和热行为。ATLAS提供了一个基于物理、使用简便、模块化的可扩展平台,可分析所有二维和三维半导体技术的直流、交流和时域响应。在并行机器上,高效和稳定的多线程算法在保持精度的同时大大减少了仿真时间。
软件特点:
1,无需昂贵的分批作业试验即可精确地表征基于物理的器件在二维或三维中的电、光和热性能;
2,解决成品率和工艺变动的问题,以优化速度、功率、密度、击穿、漏电、发光度和可靠性;
3,完全与ATHENA工艺仿真软件整合,具有完善的可视化软件包、大量的实例数据库和简单器件语法;
4,提供最多选择的硅、III-V、II-VI、IV-IV或聚合/ 有机技术,包括CMOS、BJT、高压功率器件、VCSEL、TFT、光电子、激光、LED、CCD、传感器、熔丝、NVM、铁电材料、SOI、in-FET、HEMT和 HBT;
5,通过将ATLAS结果直接导入UTMOST以供 SPICE参数提取,从而将TCAD 连接到流片(Tapeout);
6,支持多核和多处理器SMP机器的并行处理;
7,全球各地有分支机构提供支持;
8,Silvaco强大的加密功能可以用来保护客户和第三方的知识产权。
详细信息请下载彩页资料